广泛用于蓝宝石钟表玻璃、手机玻璃、玻璃基片、mp3面板、光学玻璃晶片、led蓝宝石衬底、石英晶片、硅片、诸片、陶瓷基板、活塞环、阀片、铝铁硼、钼片、铁氧体、铌酸锂、钽酸锂、ptc热敏电阻、光盘基片、陶瓷密封环、硬质合金密封环、钨钢片、等各种材料的双面研磨、抛光.
本系列
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5.可根据用户要求增加光栅厚度控制系统,加工后的产品厚度公差可控制在±0.002mm范围内。
随着平面抛光机的抛光技术的发展,对工件的表面光洁度处理也很。自动抛光机进行抛光的时候,立式双端面研磨机,如果其工件凹陷的部位不溶解的话,那么其达到的工件的表面平滑的能力就的理想,但是实际上,凹陷处只是比工件的凸起的地方所发费的时间要短,其速度要快而已。
因为平面抛光机上面的薄膜可以去除工件表面上凸起处的小锯齿形面,所以自动抛光机抛光之后表面就会显得很光滑。当工件上的薄膜钝化的厚度与小锯齿差不多被去掉的时候,所研磨抛光的速度就需要慢慢的减缓。
在平面抛光机抛光过程中,工件的表面变平的同时,总是会改变其工件的尺寸,在这里使工件变平的高度,与所溶掉的工件的厚度的比例这就是表示抛光的效率,其金属的溶解的速度主要决定于平面自动抛光机抛光的条件,但是这是可以提前确定的。
要达到工件的表面光洁度主要是决定于工件表面的状态以及自动抛光机抛光所持续的时间,表面的抛光会提高很多,其光洁度个别情况下提高还要多。
圆盘式研磨机分单盘和双盘两种,以双盘研磨机应用为普通。在双盘研磨机上,多个工件同时放入位于上、下研磨盘之间的保持架内,卧式双端面研磨机,保持架和工件由偏心或行星机构带动作平面平行运动。下研磨盘旋转,与之平行的上研磨盘可以不转,或与下研磨盘反向旋转,并可上下移动以压紧工件(压力可调)。此外,上研磨盘还可随摇臂绕立柱转动一角度,以便装卸工件。双盘研磨机主要用于加工两平行面、一个平面(需增加压紧工件的附件)、外圆柱面和球面(采用带v形槽的研磨盘)等。加工外圆柱面时,因工件既要滑动又要滚动,须合理选择保持架孔槽型式和排列角度。单盘研磨机只有一个下研磨盘,用于研磨工件的下平面,可使形状和尺寸各异的工件同盘加工,研磨精度较高。有些研磨机还带有能在研磨过程中自动校正研磨盘的机构。
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