新韩半导体减薄机-北京凯硕

立式减薄机ivg-200s设备结构

1．构成

1）磨盘主轴系统

2）工件盘主轴系统

3）进给系统

4）控制系统

5）辅助设备

2。规格

1）砂轮尺寸：（o.d）200mm×(x)7mm×(t)5mm

2）加工尺寸：较大φ250mm

3）速度和功率：

砂轮：3，000rpm(无级可调)  3.0kw ac伺服电机

工件：200rpm （无级可调）   0.75kw 齿轮电机

4)分辨度：0.001mm

5)精度：±0.002mm

6)重复度：0.001mm

7)研磨范围：200mm

8)进给率：0.1μm-1000μm/sec

影响减薄机减薄硅片平整度的因素有哪些?

减薄前将硅片粒结合在行星齿轮片上的沾片方法是十分重要的。因为当沾片的方法不合理时，减薄后的硅片厚度公差将会随之增大，所以在沾片前我们要故的首步是将硅片按厚度分好档，然后把硅片用蜡均匀地沾在行星齿轮片正、反两面上，需要注意的是同一轮研磨的四块或五块行星齿轮片上的硅片厚度-定要均匀，如果硅片不按照厚度去分档，而任意沾片，想要提高减薄后的硅片厚度公差是相对比较困难的。

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